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单晶片处理 / 湿式站


  晶圆清理
  根据客户要求定制
Single Wafer Processing Wet Station


旋转涂布机


基板直径: 10 to 125 mm
传播过程时间: 0.01 to 99.99s (adjustable)
传播速度范围: 500 to 3000RPM (adjustable)
旋转处理时间: 0.01 to 99.99 (adjustable)
旋转速度范围: 1500 to 8000RPM (adjustable)
最高转速: 8000RPM
电源: 220V, 0.5A, 50Hz
真空: 24 in Hg
尺寸(长x宽x高): 230 x 270 x 260 mm
重量 8kg

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